受託加工サービス事例
当事業部では、お客さまのご要望に対応した受託加工サービスを提供してきました。以下にこれまでに受対応してきた各種コーティング膜について紹介します。
光学機能性膜
まず、多数のお客さまからのご要望に対応してきました「光学機能性膜」を紹介します。この写真は、光学機能性膜の代表例であるAG（防眩）膜、AR（反射防止）膜をスマートフォン表面に塗布した事例です。
中央の「成膜なし」に対してAG膜、AR膜ともに防眩、反射防止の機能を果たしています。
- AR（Anti-Reflection）コート
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スプレーコートで低屈折率膜を形成する単層反射防止膜です。大面積基材、曲げ基材への対応やプロセスコスト低減を実現する手法として提案しております。
- AF（Anti-Fingerprint）（防汚）コート
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スプレーコートにより基材表面に撥水・撥油・防汚機能を付与します。ガラス、金属への密着、専用プライマ―併用で樹脂への密着も良好で高い摩擦耐久性を有します。
- AG（Anti-Glare）コート
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スプレーコートにより基材表面に微細な凹凸を形成し外光を乱反射させることで映り込みを低減、各種ディスプレイの視認性を向上します。ケミカルエッチング手法に代わるガラスのAG処理手法として提案しております。
フォトレジスト
概要
- 技術内容
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フォトレジストを微粒化してスプレー塗布し、スピンコートが困難な基板にも均一膜を形成する技術
- 主な目的
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段差の大きい基板、孔質基板、3D構造への均一なレジスト膜を形成
- レジスト種別
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ポジ型・ネガ型レジスト、感光性ポリイミド、厚膜レジスト（SU-8 等）
- 使われる溶媒
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PGMEA、シクロヘキサノン、アセトン等（レジストに依存）
- 対応基板
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Si、ガラス、セラミック、金属、MEMSウェハ、TGV・TSV付きウェハ、微細凹凸基板
- 特徴
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膜厚制御が容易、大面積・曲面に対応、スピンコート不要でレジスト使用量を削減
応用分野
- MEMSデバイス
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深い溝・段差の大きい構造に均一なレジスト形成（DRIE・KOHエッチング前処理）
- TSV／TGV基板
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ガラスやSi の深穴内部に均一レジストを形成（側壁コーティング）
- パワーデバイス
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厚膜レジストによるパターン形成
- プリント基板（PCB）
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凹凸が大きいパターンへのレジスト塗布
- 光学デバイス
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マイクロレンズや光導波路のレジストパターニング
- 3D構造基板
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曲面、段差、立体形状への均一膜形成が可能
膜の特性
- 膜厚
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数百 nm ～ 数十 µm まで制御可能（吐出量・スプレー速度で調整）
- 均一性
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±3〜10%（基板形状や条件に依存）
- 被覆性
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深穴（TGV／TSV）側壁にも塗布可能
スピンが不可な基板（穴、凹凸、3D形状）でも高い被覆性 - 密着性
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プラズマ処理、HMDS処理で密着力改善
CNT／金属触媒ナノ粒子
概要
- コーティング方法
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CNT・金属触媒ナノ粒子を分散液にし、ノズルで霧化し、基材へ吹き付けて薄膜形成
- 主な材料系
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CNT（単層・多層）、金属ナノ粒子（Fe、Co、Ni、Pt、Au、Ag、Cu など）
- 分散溶媒
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水、IPA、エタノール、NMP、DMF、その他界面活性剤を含む溶媒
- 特徴
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分散粒子の凝集を抑え、均一な薄膜を形成可能
応用分野
- 導電性フィルム
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電子デバイスやプリンテッドエレクトロニクス向けの低抵抗薄膜
- 透明電極
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ITO代替としてガラス・PET基板上に形成可能
- センサー
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ガスセンサー、圧力センサー、生体センサーなどの感応素子
- エネルギーデバイス
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キャパシタ・二次電池の電極、触媒層
- 電磁波シールド
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柔軟・薄型のEMIシールド層
- 耐熱・導電性塗膜
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高温部品の帯電防止コートなど
- 触媒担持膜
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CNT上に金属ナノ粒子を付着させた触媒層
太陽光発電デバイス用保護膜／機能膜
概要
- 技術内容
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太陽電池モジュール表面（ガラス・PET・ETFEなど）へ、保護膜／機能膜をスプレーで成膜する手法
- 主な目的
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表面保護（対候性向上、防汚・防湿・耐スクラッチ）
光利用効率の向上（反射防止／光散乱） - 主な材料系
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シリカ系コーティング、フッ素系撥水膜、反射防止（AR）膜、TiO2/SiO2ナノ粒子
- 対応基板
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ソーラーカバーガラス、PETフィルム、バックシート、フレキシブルPV（CIGS、OPVなど）
- 特徴
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大面積に均一な膜形成が可能
曲面・軽量モジュールにも適用可能
既存モジュールへの後工程コートも対応
応用分野
- 反射防止（AR）膜
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低屈折率被膜で光の反射を低減し、発電効率を向上
- 撥水・防汚膜
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フッ素系膜やオルガノシリカ膜により、汚れ付着を抑制（セル効率維持）
- 耐スクラッチ膜
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カバーガラスに硬質コート形成して傷防止
水素電池（燃料電池／水素発電デバイス）用 機能膜
概要
- 技術内容
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電極触媒層、イオノマー層、ガス拡散層（GDL）保護膜、バインダー膜などをスプレーで微粒化塗布し均一に成膜する技術
- 目的
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触媒（Pt等）を均一分散、イオノマーとCNT／カーボンブラックの均一混合、ガス拡散性、吸水／保水性の最適化
- 主な材料
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Pt/C、PtCo/C、IrO2、CNT、カーボンブラック、Nafion、AEM（アニオン交換膜）用イオノマー、TiO2、SiO2微粒子
- 対応基板
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CCM（触媒コート膜）、GDL（カーボンペーパー／カーボンクロス）、金属多孔体（Ni、Ti）
- 特徴
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触媒利用効率が高い（Pt低減）、薄膜の均一化が容易・大面積MEA（膜電極接合体）の大量生産に適する
スプレーコーティング装置のカスタマイズ例
お客さまのニーズに合わせた仕様のスプレーコーティング装置を販売します。
通過型連続塗布装置・ロールtoロール対応
大量生産に最適な通過型連続塗布装置、フィルム状のロールtoロール、枚葉状の基板のCV（コンベア）搬送に対応します。
全自動搬送装置、加熱ステージ、各種前後装置（純水洗浄、UV洗浄、プラズマ洗浄、ベーク炉など）との連動装置、薬液供給ユニット
マルチヘッドモデル
処理速度の大幅な向上を目的にスプレーヘッドを複数搭載可能なモデル
受託加工サービスを活用するメリット
当社は、1967年の設立以来、「研究開発型企業」として高純度ケミカル液剤の製造販売を中心として事業を展開して参りました。
当事業部でも同様の理念でお客さまの製品開発に役立つ加工サービス、設備販売、関連基材販売を行って来ました。
当事業部を活用いただくメリットをお客さまの製品開発プロセスの視点から3点紹介します。
1. クリーンルームに設置されたデモ機を使える
- 当社は、JR京都駅からJR嵯峨野線で約20分の亀岡市大井工業団地にクリーンルームのデモルームがあります。JR嵯峨野線沿線には、世界的にも有名な嵯峨嵐山エリア、嵯峨野観光鉄道トロッコ列車、保津川下りなどがあります。
- クラス1000のクリーンルームにスプレーコーター、前処理装置（プラズマ処理装置、各種洗浄装置）、スプレーコーティング後のオーブン装置、デジタルマイクロスコープなどの各種評価測定装置を設置しています。
- クリーンルームでの加工により異物付着を抑制できます。
- 当事業部に設置していないタイプの装置の場合、装置メーカーと協力して一週間単位で当事業部のクリーンルームにデモ機を設置し、お客さま立会で一連の加工（有償）も可能です。
2. リーズナブルな費用で試作加工ができる
- 当事業部では、お客さまの設備投資判断を適確に行っていただくための加工費用を抑えた試作加工が可能です。
- 製品開発には開発段階に応じて試作品の数量、加工内容が変化します。当事業部では、それらの段階での数量・加工内容に合わせた費用対応を行っています。
- 当事業部では、蓄積した経験・ノウハウを活用してコーティングプロセスを提案させていただきます。もちろん、お客さまご指定による加工条件の設定も可能です。
- コーティング材料、ガラス基板、半導体基板等の材料を当社製や外部から提供しております。さらに、関連する各種加工を外部提携先により提供できます。
3. 量産試作対応、量産用のレシピー提供、設備と材料販売ができる
- 量産試作でリードタイムや品質が達成された場合、量産体制となります。
- 量産用レシピーの提供により、カスタマイズされた装置でのスムーズな量産工程の立ち上げが可能です。
- 試作開発時と同様にコーティング材料、基板の供給も可能です。
